徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: [日下 一也]/[英 崇夫]/[富永 喜久雄]/Effects of Substrate Temperature and Successive Annealing on Residual Stress in AlN Films Dposited by Sputtering/Proceedings of the First International Symposium on Thermal Stresses and Related Topics

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EID
16448
EOID
350960
Map
0
LastModified
2007年8月1日(水) 12:24:36
Operator
日下 一也
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
日下 一也
Read
継承
Write
継承
Delete
継承
種別 必須 国際会議
言語 必須 英語
招待 推奨
審査 推奨 Peer Review
カテゴリ 推奨 研究
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座
  2. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 日下 一也([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. 英 崇夫
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Effects of Substrate Temperature and Successive Annealing on Residual Stress in AlN Films Dposited by Sputtering

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文はガラス基板上に製作したAlN膜の結晶配向性および残留応力挙動について検討した結果の報告である.スパッタリング法で作成したAlN膜はc軸配向性を有しており,通常のX線応力解析法の適用は不可能なので,著者等が新しく提案した応力測定法により残留応力測定した.製膜後の残留応力は1GPa以上の引張であり,基板温度の上昇により大きくなる.また,この残留応力は試料の加熱により基板と膜との熱膨張係数差による熱残留応力挙動に従うことを明らかにした.

キーワード 推奨
発行所 推奨
誌名 必須 (英) Proceedings of the First International Symposium on Thermal Stresses and Related Topics
ISSN 任意
必須
必須
必須 599 602
都市 必須 浜松(Hamamatsu/[日本国])
年月日 必須 1995年 6月 5日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意