徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: [英 崇夫]/[日下 一也]/[富永 喜久雄]/藤原 晴夫/Dependence of Substrate and Its Temperature on Residual Sress Development in AlN Films Deposited on Glasses by Magnetron Sputtering Method/Proceedings of International Symposium on Nondestructive Testing & Stress-Strain Measurement

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EID
16446
EOID
350958
Map
0
LastModified
2007年8月1日(水) 12:23:33
Operator
日下 一也
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
日下 一也
Read
継承
Write
継承
Delete
継承
種別 必須 国際会議
言語 必須 英語
招待 推奨
審査 推奨 Peer Review
カテゴリ 推奨 研究
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座
  2. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 英 崇夫
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. 日下 一也([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. (英) Fujiwara Haruo / (日) 藤原 晴夫 / (読) ふじわら はるお
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Dependence of Substrate and Its Temperature on Residual Sress Development in AlN Films Deposited on Glasses by Magnetron Sputtering Method

副題 任意
要約 任意

(日) マグネトロンスパッタリング法によりガラス基板上に形成したAl膜およびAlN膜の残留応力をX線回折法により調べた.特に,基板の種類および基板温度をパラメータとして,残留応力に対する影響を調べた.基板には熱膨張係数がAlNとほぼ同じものと異なるものを用いた,基板温度は室温から高温までの数段階を設定した.その結果,AlN膜の残留応力は温度依存性が認められ,臨界の基板温度までは引っ張り残留応力が増加する.その傾向は基板とAlN膜の熱膨張係数差により説明できることを確認した.また,臨界の基板温度を超えると残留応力は低下し,微視的残留応力の緩和によるものと推定した.

キーワード 推奨
発行所 推奨
誌名 必須 (英) Proceedings of International Symposium on Nondestructive Testing & Stress-Strain Measurement
ISSN 任意
必須
必須
必須 516 523
都市 必須 東京(Tokyo/[日本国])
年月日 必須 1992年 10月 12日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意