徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

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著作: [日下 一也]/[英 崇夫]/[富永 喜久雄]/Effect of Plasma Protection Net on Residual Stress in AlN Films Deposited by a Magnetron Sputtering System/[Thin Solid Films]

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EID
16444
EOID
328491
Map
0
LastModified
2007年2月14日(水) 15:58:46
Operator
日下 一也
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
日下 一也
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Write
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Delete
継承
種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須 英語
招待 推奨
審査 推奨 Peer Review
カテゴリ 推奨 研究
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座
  2. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 日下 一也([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. 英 崇夫
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Effect of Plasma Protection Net on Residual Stress in AlN Films Deposited by a Magnetron Sputtering System

副題 任意
要約 任意

(英) Crystal orientation and residual stress development in AlN films deposited on borosilicate glass (the thermal expansion coefficient of which is nearly equal to that of AlN) substrates were investigated by X-ray diffraction method. The AlN films were prepared by a conventional planar magnetron sputtering system with a plasma protection net under the condition of constant substrate temperature and various nitrogen gas pressures between 0.8 Pa and 13 Pa. We found that the residual stresses show the same qualitative tendency against the nitrogen gas pressure independent of the use of the plasma protection net. Large tensile residual stress was observed at high nitrogen gas pressure and large compressive residual stress was observed at low gas pressure. When the plasma protection net was used, residual stresses in the AlN film were shifted to the compressive side.

(日) BLCガラス基板上に堆積したAlN膜の結晶配向性と残留応力をX線回折法により調べた.一定の基板温度,0.8Paから13Paの間のいろいろな窒素ガス圧の条件の下,従来型プレーナマグネトロンスパッタリングによりAlN膜を堆積した.プラズマ防止網の使用に関して,窒素ガス圧に対して同じ定性的な傾向を示す.高窒素ガス圧で大きな引張残留応力が,低窒素ガス圧で大きな圧縮残留応力が発生した.プラズマ防止網を使用した場合,AlN膜の残留応力は圧縮側へ移行した.

キーワード 推奨
発行所 推奨 Elsevier Science
誌名 必須 Thin Solid Films([Elsevier])
(resolved by 0040-6090)
ISSN: 0040-6090 (pISSN: 0040-6090)
Title: Thin solid films
Title(ISO): Thin Solid Films
Publisher: Elsevier Sequoia
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
ISSN 任意
必須 290-291
必須
必須 260 263
都市 任意
年月日 必須 1996年 11月 1日
URL 任意 http://www.sciencedirect.com/science?_ob=ArticleURL&_udi=B6TW0-41TNCJ0-1V&_user=106892&_handle=B-WA-A-A-AUV-MsSAYZA-UUA-AUECWWDWCW-AUEWYUYUCW-CDAZVDZYB-AUV-U&_fmt=summary&_coverDate=12%2F15%2F1996&_rdoc=51&_orig=browse&_srch=%23toc%235548%231996%23997099999%23220187!&_cdi=5548&view=c&_acct=C000008258&_version=1&_urlVersion=0&_userid=106892&md5=4083bf0221814b08bb0bf6248d171a0d
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意