徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

徳島大学ウェブサイトへのリンク

著作: [日下 一也]/[英 崇夫]/西田 真之/[猪子 富久治]/Residual Stress and in-situ Thermal Stress Measurement of Aluminum Film Deposited on Silicon Wafer/[Thin Solid Films]

ヘルプを読む

「著作」(著作(著書,論文,レター,国際会議など))は,研究業績にかかる著作(著書,論文,レター,国際会議など)を登録するテーブルです. (この情報が属するテーブルの詳細な定義を見る)

  • 項目名の部分にマウスカーソルを置いて少し待つと,項目の簡単な説明がツールチップ表示されます.

この情報をEDB閲覧画面で開く

EID
16442
EOID
328489
Map
0
LastModified
2007年2月14日(水) 15:58:08
Operator
日下 一也
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
日下 一也
Read
継承
Write
継承
Delete
継承
種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須 英語
招待 推奨
審査 推奨 Peer Review
カテゴリ 推奨 研究
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座
  2. 徳島大学.工学部.機械工学科.機械科学講座
著者 必須
  1. 日下 一也([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. 英 崇夫
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Nishida Masayuki / (日) 西田 真之 / (読) にしだ まさゆき
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. 猪子 富久治
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Residual Stress and in-situ Thermal Stress Measurement of Aluminum Film Deposited on Silicon Wafer

副題 任意
要約 任意

(英) Residual stresses in aluminum film deposited on a silicon wafer were measured after annealing and quenching. In all cases, residual stresses were tensile, but slow cooling produced lager stresses than quenching. Residual stresses of slow-cooled samples became relaxed after annealing above 300℃. Film passivation by carbon deposition retarded the relaxation of residual stress. In-situ X-ray stress measurement revealed that compressive stresses developed in a heating stage and tensile stresses in a cooling stage. From a scanning electron microscopy observation, it becomes clear that the former contributes to nucleation of hillocks and the latter to void formation and growth.

(日) 焼鈍および急冷後,シリコンウエハ上に堆積させたアルミニウム膜の残留応力を測定した.すべての場合において残留応力は引張となるが,除冷は急冷よりも大きな応力を形成する.除冷試料の残留応力300℃以上での焼鈍後に緩和する.炭素の保護膜は残留応力の緩和に関係する.加熱段階で圧縮応力が,冷却段階で引張残留応力が形成されることがX線応力その場測定により明らかになった.走査型電子顕微鏡観察より,ヒロックの核が形成され,その後,ボイドが形成し成長することが明らかになった.

キーワード 推奨
発行所 推奨
誌名 必須 Thin Solid Films([Elsevier])
(resolved by 0040-6090)
ISSN: 0040-6090 (pISSN: 0040-6090)
Title: Thin solid films
Title(ISO): Thin Solid Films
Publisher: Elsevier Sequoia
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
ISSN 任意
必須 290-291
必須
必須 248 253
都市 任意
年月日 必須 1996年 11月 1日
URL 任意 http://www.sciencedirect.com/science?_ob=ArticleURL&_udi=B6TW0-41TNCJ0-1S&_user=106892&_handle=B-WA-A-A-AUV-MsSAYZA-UUA-AUECWWDWCW-AUEWYUYUCW-CDAZVDZYB-AUV-U&_fmt=summary&_coverDate=12%2F15%2F1996&_rdoc=49&_orig=browse&_srch=%23toc%235548%231996%23997099999%23220187!&_cdi=5548&view=c&_acct=C000008258&_version=1&_urlVersion=0&_userid=106892&md5=de9bb718de31db14fab9bc362418b723
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意