徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: 谷口 大輔/[日下 一也]/[英 崇夫]/[富永 喜久雄]/Effect of Sputtering Power on Residual Stress in AlN Films Deposited by rf Sputtering/Proceedings of the Second International Conference on Advanced Materials Development and Performance Evaluation and Application

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EID
16433
EOID
350966
Map
0
LastModified
2007年8月1日(水) 12:27:29
Operator
日下 一也
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
日下 一也
Read
継承
Write
継承
Delete
継承
種別 必須 国際会議
言語 必須 英語
招待 推奨
審査 推奨 Peer Review
カテゴリ 推奨 研究
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座
  2. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. (英) Taniguchi Daisike / (日) 谷口 大輔 / (読) たにぐち だいすけ
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
    適合する可能性のある以下の学生情報を発見しました
    《谷口 大輔 () @ 工学研究科.博士前期課程 [大学院学生] 1999年4月〜2001年3月》
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  2. 日下 一也([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. 英 崇夫
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Effect of Sputtering Power on Residual Stress in AlN Films Deposited by rf Sputtering

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文は,ガラス基板上にrfスパッタリング法により蒸着したAlN膜の残留応力測定に関するものである.成膜方法として,通常の平面ターゲットと屋根型ターゲットを用いた.これらの方法で作成した膜のc軸特性および残留応力に及ぼす雰囲気ガス圧およびスパッタリングパワーの依存性をX線回折法により調査した.低ガス圧では平面ターゲットで,また高ガス圧では屋根型ターゲットでよいc軸配向成が得られた.残留応力はスパッタリングパワーが200Wの場合はすべての膜で引張残留応力,100Wの場合に低ガス圧で圧縮,高ガス圧で引張になった.

キーワード 推奨
発行所 推奨
誌名 必須 (英) Proceedings of the Second International Conference on Advanced Materials Development and Performance Evaluation and Application
ISSN 任意
必須
必須
必須 883 886
都市 必須 徳島(Tokushima/[日本国])
年月日 必須 1999年 11月 23日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意