徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

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著作: [日下 一也]/[英 崇夫]/[富永 喜久雄]/Relationship between Grain Size and Residual Stress in AlN Sputtered Film/Proceedings of the Sixth International Conference on Residual Stresses

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EID
16145
EOID
350971
Map
0
LastModified
2007年8月1日(水) 12:29:55
Operator
日下 一也
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
日下 一也
Read
継承
Write
継承
Delete
継承
種別 必須 国際会議
言語 必須 英語
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨 研究
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座
  2. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 日下 一也([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. 英 崇夫
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Relationship between Grain Size and Residual Stress in AlN Sputtered Film

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文は,ガラス基板上にプレーナマグネトロンスパッタリングにより蒸着したAlN薄膜の結晶配向性および残留応力をX線回折法により実験的に調査したものである.通常のプレーナマグネトロンスパッタリング法(CPM)および2枚のターゲットを用いたマグネトロンスパッタリング法(FTPM)により成膜したAlN膜について,膜表面形状と結晶特性を調べた.窒素ガス圧は一定とし,基板温度と蒸着時間をパラメータとした.得られた結果は次のとおりである.(1)FTPMの膜はCPMに比べて結晶粒が大きい.(2)CPMで作製した厚い膜は高いc軸配向性を有する.(3)FTPMで製作した膜および低基板温度で作製した膜は高い引張残留応力を有する.

キーワード 推奨
発行所 推奨 (英) IOM Communications Ltd.
誌名 必須 (英) Proceedings of the Sixth International Conference on Residual Stresses
ISSN 任意
必須 1
必須
必須 391 398
都市 必須 (英) Oxford, United Kingdom
年月日 必須 2000年 7月 10日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意