著作: 柴田 浩史/[妹尾 真紀子]/[佐藤 恒之]/Photopolymerization of methyl methacrylate with the CpTiCl3/(-)-sparteine system/The 2nd International Conference on Advanced Materials Development and Performance
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種別 | 必須 | 国際会議 | |||
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招待 | 推奨 | ||||
審査 | 推奨 | ||||
カテゴリ | 推奨 | ||||
共著種別 | 推奨 | ||||
学究種別 | 推奨 | ||||
組織 | 推奨 |
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著者 | 必須 | ||||
題名 | 必須 |
(英) Photopolymerization of methyl methacrylate with the CpTiCl3/(-)-sparteine system |
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副題 | 任意 | ||||
要約 | 任意 |
(日) メタクリル酸メチルの光重合を,メタノール/水混合溶媒中,ビスシクロペンタジエニルチタニウムクロライドを用いて,キレート剤としてスパルテイン存在下で行った.スパルテイン存在下では,重合が抑制されたが,通常のラジカル重合で合成したポリメタクリル酸メチルとは溶解特性が異なり,ベンゼン不溶部が多く含まれることがわかった.このベンゼン不溶部は,ベンゼン可溶部に比べて熱的安定性が高い. |
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キーワード | 推奨 | ||||
発行所 | 推奨 | ||||
誌名 | 必須 |
(英) The 2nd International Conference on Advanced Materials Development and Performance
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巻 | 必須 | 2 | |||
号 | 必須 | ||||
頁 | 必須 | 854 857 | |||
都市 | 必須 | 徳島(Tokushima/[日本国]) | |||
年月日 | 必須 | 1999年 11月 23日 | |||
URL | 任意 | ||||
DOI | 任意 | ||||
PMID | 任意 | ||||
CRID | 任意 | ||||
WOS | 任意 | ||||
Scopus | 任意 | ||||
評価値 | 任意 | ||||
被引用数 | 任意 | ||||
指導教員 | 推奨 | ||||
備考 | 任意 |