徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: [富永 喜久雄]/多田 修/久米 道也/SiO2スパッタ膜の作製における残留水分の影響/プラズマ研究会

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EID
120345
EOID
707123
Map
0
LastModified
2013年8月26日(月) 15:02:52
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 その他·研究会
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (日) 多田 修 / (読) ただ おさむ
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (日) 久米 道也 / (読) くめ みちや
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(日) SiO2スパッタ膜の作製における残留水分の影響

副題 任意
要約 任意

(日) 飛行時間法を用いたプローブにより,SiO2のスパッタリングにおいて,SiO2ターゲット表面の状況をその場観察を行うことができた.SiO2表面にはH2O(水)が存在しているとき,高速H原子が観察され,このときはSiO2スパッタ膜の付着速度が小さい.液体窒素トラップで冷却することにより高速H原子の信号強度が減少すると,SiO2スパッタ膜の付着速度が増す.このことから,SiO2ターゲット表面に付着するH2Oが,膜の付着速度に密接に関係することが確認できた.

キーワード 推奨
発行所 推奨 電気学会
誌名 必須 (日) プラズマ研究会 / (読) ぷらずまけんきゅうかい
ISSN 任意
必須 EP-88-11
必須 ---
必須 39 43
都市 必須
年月日 必須 1988年 2月 13日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意