著作: Ueta Yoshihiro/Sato Hisao/[酒井 士郎]/[福井 萬壽夫]/X-ray photoelectron spectroscopy study of GaN and GaP surfaces annealed in PH3 and NH3 and metalorganic chemical vapor deposition growth of GaN / GaP heterostructures/[Journal of Crystal Growth]
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種別 | 必須 | 学術論文(審査論文) | |||||
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言語 | 必須 | 英語 | |||||
招待 | 推奨 | ||||||
審査 | 推奨 | ||||||
カテゴリ | 推奨 | ||||||
共著種別 | 推奨 | ||||||
学究種別 | 推奨 | ||||||
組織 | 推奨 | ||||||
著者 | 必須 | ||||||
題名 | 必須 |
(英) X-ray photoelectron spectroscopy study of GaN and GaP surfaces annealed in PH3 and NH3 and metalorganic chemical vapor deposition growth of GaN / GaP heterostructures |
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副題 | 任意 | ||||||
要約 | 任意 |
(日) PH3 ,NH3中のGaN,GaPのアニーリング効果について調査し,GaN上のGaP,GaP上のGaNのMOCVD法による成長を行った.それにより次の結果が得られた.約 800℃の低温でのNH3中のアニーリングにより,GaP内にN原子が入り込み,ウルツ鉱型GaN結晶が形成される.しかしGaN結晶の品質は低く,GaP は劣化する.一方,PH3中でのアニーリングでは,GaN中にP原子を導入するためには高温アニーリングが必要である.GaP上に堅いGaNをヘテロ成長させると,基板の品質を劣化させ,逆に,堅いGaNの上に成長させた柔らかいGaPは,基板の品質に大いに影響されること.等がわかった. |
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キーワード | 推奨 | ||||||
発行所 | 推奨 | Elsevier(->組織[Elsevier Science]) | |||||
誌名 | 必須 |
Journal of Crystal Growth([Elsevier])
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巻 | 必須 | 145 | |||||
号 | 必須 | 1-4 | |||||
頁 | 必須 | 203 208 | |||||
都市 | 任意 | アムステルダム(Amsterdam/[オランダ王国]) | |||||
年月日 | 必須 | 1994年 12月 2日 | |||||
URL | 任意 | ||||||
DOI | 任意 | ||||||
PMID | 任意 | ||||||
NAID | 任意 | ||||||
WOS | 任意 | ||||||
Scopus | 任意 | ||||||
評価値 | 任意 | ||||||
被引用数 | 任意 | ||||||
指導教員 | 推奨 | ||||||
備考 | 任意 |