著作: [金崎 英二]/Adsorption Depth Profile of Rhodamine B on Silica Particles by Photoacoustic Spectroscopy/[Chemical Physics Letters]
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| 種別 | 必須 | 学術論文(審査論文) | |||||||||
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| 言語 | 必須 | 英語 | |||||||||
| 招待 | 推奨 | ||||||||||
| 審査 | 推奨 | Peer Review | |||||||||
| カテゴリ | 推奨 | ||||||||||
| 共著種別 | 推奨 | ||||||||||
| 学究種別 | 推奨 | ||||||||||
| 組織 | 推奨 | ||||||||||
| 著者 | 必須 |
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| 題名 | 必須 |
(英) Adsorption Depth Profile of Rhodamine B on Silica Particles by Photoacoustic Spectroscopy |
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| 副題 | 任意 | ||||||||||
| 要約 | 任意 |
(日) 本論文は，シリカ粒子上に吸着した色素分子(ロダミンB)の吸収スペクトルを光音響分光法により測定し，又，その励起光の断続周波数に対する吸収強度の依存性についてのRG理論に基ずく理論的解析を行い，シリカ粒子表面に吸着したの色素分子の分布の詳細について論じたものである |
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| キーワード | 推奨 | ||||||||||
| 発行所 | 推奨 | Elsevier Science | |||||||||
| 誌名 | 必須 |
Chemical Physics Letters([Elsevier])
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| 巻 | 必須 | 138 | |||||||||
| 号 | 必須 | 4 | |||||||||
| 頁 | 必須 | 352 354 | |||||||||
| 都市 | 任意 | アムステルダム(Amsterdam/[オランダ王国]) | |||||||||
| 年月日 | 必須 | 1987年 7月 初日 | |||||||||
| URL | 任意 | ||||||||||
| DOI | 任意 | ||||||||||
| PMID | 任意 | ||||||||||
| NAID | 任意 | ||||||||||
| WOS | 任意 | ||||||||||
| Scopus | 任意 | ||||||||||
| 評価値 | 任意 | ||||||||||
| 被引用数 | 任意 | ||||||||||
| 指導教員 | 推奨 | ||||||||||
| 備考 | 任意 | ||||||||||