徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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授業概要: 2005/精密機械工学

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EID
113318
EOID
383631
Map
[2004/精密機械工学]
LastModified
2007年12月28日(金) 22:28:01
Operator
大家 隆弘
Avail
TRUE
Censor
承認済
Owner
[教務委員会委員]/[徳島大学.工学部.機械工学科]
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種別 必須 工学研究科 (授業概要)
入学年度 必須 西暦 2005年 (平成 17年)
名称 必須 (英) Precision Machinery / (日) 精密機械工学 / (読) せいみつきかいこうがく
コース 必須
  1. 2005/[徳島大学.工学研究科.機械工学専攻]/[博士前期課程]
担当教員 必須
  1. 英 崇夫
    肩書 任意
単位 必須 2
目的 必須

(英) Learning of preparation and evaluation methods on thin films which are important to micro-machines and electronic parts.

(日) マイクロマシンや電子部品の製作に欠かせない薄膜に関して,その創成技術および特性評価技術について学習する.

概要 必須

(英) We learn about basics of thin films, thin film preparation methods, crystal structure and stress in thin films. Since the development of residual stresses is a serious problem in thin film preparation, an evaluation and a control of the residual stresses are necessary in the fabrication of thin films. X-ray stress measurement and its application on the stress in thin films are to be understood. Recent works on stresses in thin films are introduced.

(日) 薄膜の基本概念,薄膜の作製方法,薄膜の結晶性と応力を学ぶ.薄膜創成では特に残留応力の発生が問題になり,その評価と制御を適正に行う必要がある.残留応力の測定法としてのX線応力測定法およびその薄膜応力への応用を理解する.また,薄膜の応力の性質について最近の研究を紹介する.

キーワード 推奨
先行科目 推奨
関連科目 推奨
要件 任意

(日) 結晶に関する基本的概念を修得しておくことが必要である.

注意 任意

(日) 授業中の学習のみでなく,薄膜創成,結晶学,X線回折,X線応力測定法,マイクロマシンなどについて自主的に深く学習すること

目標 必須
  1. (英) Understanding of thin film preparation

    (日) 薄膜創成法を理解する

  2. (英) Understanding of X-ray stress measurement

    (日) X線応力測定法を理解する

  3. (英) Understanding of stresses in thin films

    (日) 薄膜の応力を理解する

計画 必須
  1. (英) Basics of thin film

    (日) 薄膜の基本概念

  2. (英) Thin film preparation

    (日) 薄膜の作製方法

  3. (英) Crystal structure and stress in thin films

    (日) 薄膜の結晶性と応力

  4. (英) Mechanical stress measurement of thin film

    (日) 機械的方法による薄膜の応力測定

  5. (英) X-ray diffraction (1) Characteristics of X-rays

    (日) X線回折(1)X線の性質

  6. (英) X-ray diffraction (2) Crystal structures

    (日) X線回折(2)結晶の幾何学

  7. (英) X-ray diffraction (3) Diffraction by an atom and a small crystal

    (日) X線回折(3)原子および結晶による回折

  8. (英) X-ray diffraction (4) Powder diffraction

    (日) X線回折(4)粉末結晶からの回折

  9. (英) Report and presentation

    (日) レポートと発表

  10. (英) Principle of X-ray stress measurement

    (日) X線応力測定法

  11. (英) Stress measurement of thn films

    (日) X線的方法による薄膜の応力測定

  12. (英) Development of residual stress

    (日) 残留応力の発生

  13. (英) Recovery of residual stress

    (日) 残留応力の回復

  14. (英) Thermal stress and stress migration

    (日) 熱応力とストレスマイグレーション

  15. (英) Application of thin films

    (日) 薄膜の応用

  16. (英) Examination

    (日) 定期試験

評価 必須

(日) レポートと発表40%,定期試験60%

対象学生 任意
教科書 必須
  1. (日) 特になし

参考資料 推奨
  1. (英) B. D. Cullity, Elements of X-ray Diffraction, Addison-Wesley

    (日) 松村源太郎訳,カリティX線回折要論,アグネ

  2. (英) K. Wetzig and C. M. Schneider (Eds.), Metal Based Thin Films For Electronics, Wiley-VCH

URL 任意
連絡先 推奨
  1. 英 崇夫
    オフィスアワー 任意
科目コード 推奨
備考 任意

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